常見的機(jī)械電磁式電子雕刻機(jī)調(diào)刻刀的一次雕刻動(dòng)作就生成一個(gè)網(wǎng)穴。網(wǎng)穴的形狀僅決定于雕刻刀的角度、滾筒轉(zhuǎn)速和雕刻頭的模向進(jìn)給速度等，改變網(wǎng)穴形狀的自由度是比較小的。由此可知，非組合式網(wǎng)穴的形狀變化少，而且由于分辨率較低，文字和圖形的邊緣雕刻品質(zhì)不佳。為了解決這個(gè)問題，Hell和Daetwyler-Ohio公司的技術(shù)人采用過一些方法，例如Daetwyler-Ohio公司的TransCell技術(shù)在雕刻文字的筆劃時(shí)微量改變網(wǎng)穴的間距，使其間距變小，局部地增加雕刻分辨率；Hell公司除雕刻刀的微量移動(dòng)外，還采用類似“反混淆技術(shù)”的方法，用小網(wǎng)穴補(bǔ)充在筆劃的鋸齒空隙處，從視覺效果上予以彌補(bǔ)。
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文字、圖形邊緣精度低這一問題的真正解決途徑在于提高記錄分辨率。在HelioBeam C2000激光雕刻機(jī)上，由于采用“準(zhǔn)平印方式”進(jìn)行激光基漆燒蝕，可以用2540－5080點(diǎn)／英寸的高分辨率記錄圖文（激光光斑直徑5－10微米），雕刻分辨率是原來分辨率的10－20倍，因此從根本上解決了上述問題，提高了文字和圖形的再現(xiàn)質(zhì)量。同時(shí)，由于燒蝕出的每個(gè)網(wǎng)穴是由多個(gè)激光曝光點(diǎn)組合而成的，因此可以較為方便地設(shè)計(jì)網(wǎng)穴輪廓形狀，以改善圖像層次的傳遞效果。在HelioBeam C2000激光雕刻機(jī)上，除Hell公司原有的網(wǎng)穴形狀外，還可以產(chǎn)生其他網(wǎng)穴形狀。例如，該系統(tǒng)上產(chǎn)生的內(nèi)凹形網(wǎng)穴對(duì)補(bǔ)償印刷中的網(wǎng)點(diǎn)擴(kuò)大有益。從原理上講，雕刻調(diào)頻網(wǎng)穴也是可以實(shí)現(xiàn)的。
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提高雕刻分辨率引出了如何保證雕刻效率的問題。Hell公司的技術(shù)人員在HelioBeam C2000激光雕刻相上采用了多束激光并行曝光的方法，將功率為60瓦的新型纖維紅外激光（1110納米）分成8束（每束7．5瓦），對(duì)鍍銅滾筒上的基漆層進(jìn)行熱燒蝕。纖維激光器產(chǎn)生的激光束質(zhì)量好、聚焦深度（景深）大，而基漆的性質(zhì)穩(wěn)定，僅在高能激光下得以汽化。
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從雕刻制版工藝路線上觀察，采用該系統(tǒng)不必改變滾筒鍍銅、滾筒表面加工（車／磨／拋）的配置，僅需要在工藝流程中加入基漆涂布和腐蝕兩個(gè)步驟。系統(tǒng)可以比較方便地與原有的雕刻工藝共存，即加工好的帶銅層滾筒既可以進(jìn)行機(jī)械電磁式雕刻，也可以經(jīng)過基漆涂布進(jìn)入HelioBeam C2000進(jìn)行激光雕刻，再經(jīng)過腐蝕和去除基漆層得到凹版滾筒。隨后進(jìn)行的鍍鉻等工藝布置也是相同的。因此，該系統(tǒng)具有較高的工藝靈活性。
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